Application APREX TRACK C&M – Contrôle de bain chimique pour la production de poudre métallique
Contexte :
- Contrôle procédé en mode autonome
- Production de poudre métallique dans l’industrie métallurgique.
Objectif :
- Suivre la déformation et la dynamique des bulles du bain chimique.
- Optimisation en temps réel du procédé de fabrication pour améliorer la qualité des poudres générées par le bain et réduire la consommation énergétique.
Solution mise en œuvre :
- Mise en place des outils APREX TRACK C&M
- Comptage, mesure de dimension et de déplacement des bulles présentes dans le bain chimique.
- Informations transmises à un automate.
Points particuliers rencontrés :
- Suivi de la dynamique et de la déformation sur cibles multiples