Application APREX TRACK C&M – Contrôle de bain chimique pour la production de poudre métallique

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Contexte :

  • Contrôle procédé en mode autonome
  • Production de poudre métallique dans l’industrie métallurgique.

Objectif :

  • Suivre la déformation et la dynamique des bulles du bain chimique.
  • Optimisation en temps réel du procédé de fabrication pour améliorer la qualité des poudres générées par le bain et réduire la consommation énergétique.

Solution mise en œuvre :

  • Mise en place des outils APREX TRACK C&M
  • Comptage, mesure de dimension et de déplacement des bulles présentes dans le bain chimique.
  • Informations transmises à un automate.

Points particuliers rencontrés :

  • Suivi de la dynamique et de la déformation sur cibles multiples