Application APREX TRACK C&M – Contrôle de bain chimique pour la production de poudre métallique

Contexte :

• Contrôle procédé en mode autonome
• Production de poudre métallique dans l’industrie métallurgique.

Objectif :

• Suivre la déformation et la dynamique des bulles du bain chimique.
• Optimisation en temps réel du procédé de fabrication pour améliorer la qualité des poudres générées par le bain et réduire la consommation énergétique.

Solution mise en œuvre :

• Mise en place des outils APREX TRACK C&M
  
• Comptage, mesure de dimension et de déplacement des bulles présentes dans le bain chimique.
• Informations transmises à un automate.

Points particuliers rencontrés :

• Suivi de la dynamique et de la déformation sur cibles multiples